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等離子清洗機(jī)里面各種氣體的清洗作用
因為等離子清洗處理的材料不一樣，要求也不同，對于處理每一種工藝，都會選擇對應(yīng)的氣體，并且根據(jù)清洗的程度，調(diào)整輸入氣體的比例，清洗的停留時間等參數(shù)。目前等離子清洗機(jī)里面常用的氣體有空氣、氧氣、氬氣、氫氣、氬氫混合氣體、cf4等。每一種氣體的特性都不一樣，清洗帶來的效果也不相同。有的還會選用混合氣體，即把多種氣體混合在一起使用，以達(dá)到最好的清洗效果。
那這些清洗工藝氣體都是怎么配比的呢？這個其實是很大公司的秘密，每個公司都會有自己的一套清洗工藝，然后去調(diào)整測試的，今天我給大家講的是各種氣體的特性，讓大家對于等離子清洗機(jī)的各種氣體有一個了解。
氫氣的主要作用是用來的金屬表面的氧化物做清理，其清洗的過程其實是化學(xué)還原反應(yīng)，氫氣離子和金屬表面的氧氣離子化學(xué)反應(yīng)變成水氣。
氧氣離子是用來清洗材料表面的有機(jī)化合物，通過對有機(jī)化合物的氧化發(fā)生反應(yīng)達(dá)到清洗的目的。氬、氦、氮等非反應(yīng)氣體。氮處理可提高材料的硬度和耐磨性。氬和氦氣體特性平穩(wěn)，分子的充放電工作電壓低非常容易產(chǎn)生亞穩(wěn)態(tài)分子，一方面，運用其高能粒子的物理學(xué)功效來清理易被氧化或還原物件。
Ar+轟擊污物產(chǎn)生揮發(fā)物化學(xué)物質(zhì)污染物會從真空泵抽離出來，以防止表層化學(xué)物質(zhì)的反應(yīng)。氬非常容易產(chǎn)生亞穩(wěn)態(tài)分子，與氧原子撞擊時產(chǎn)生正電荷變換和再重組。在plasma清洗設(shè)備中應(yīng)用純氫是效率很高的，但考慮到了充放電的可靠性和安全系數(shù)，在等離子清洗設(shè)備中也可以應(yīng)用氬氫化合物。此外，還可以采用反向氧氣和氬氫氣的清洗順序，這種清洗機(jī)具有易氧化、易還原的特點。
1)氬氣：物理學(xué)轟擊表面是氬氣清理的原理。氬是有效的物理學(xué)plasma清理氣體，因為它的原子大小，能用非常大的能量打中產(chǎn)品表層。正氬正離子會被負(fù)極板吸引住，撞擊力得以除去表層的一切污漬。隨后這種氣體污染物會隨著泵排出。
2)氧氣：與產(chǎn)品表層化學(xué)物質(zhì)是有機(jī)化學(xué)反應(yīng)。比如，氧能夠合理地除去有機(jī)化學(xué)污染物，與污染物產(chǎn)生反應(yīng)，形成二氧化碳、一氧化碳和水。一般來說，化學(xué)反應(yīng)很容易除去有機(jī)污染物。
3)氫氣：氫可用以除去金屬表層氧化物。它常常與氬混合以提升去污能力。大家廣泛關(guān)心氫的易燃性性和氫氣儲存使用問題，我們可以用氫產(chǎn)生器從水里造成氫。除去潛在性的傷害。
4)cf4/sf6：氟化氣體主要是用來線路板上面的，通過化學(xué)反應(yīng)將氧化物轉(zhuǎn)換為氯化物，用在半導(dǎo)體材料和pcb（印刷線路板）等工業(yè)生產(chǎn)
